Odstęp między nadrukiem (silkscreen) a maską lutowniczą

Rule category: Produkcja

Rule classification: Binarny

Podsumowanie

Ta reguła sprawdza odstęp między dowolnym prymitywem sitodruku a dowolnym prymitywem maski lutowniczej lub odsłoniętym prymitywem warstwy miedzi (odsłoniętym przez otwory w masce lutowniczej). Kontrola zapewnia, że odległość jest równa lub większa od wartości określonej w ograniczeniu.

Wielu producentów rutynowo usuwa (lub „przycina”) sitodruk do otwarcia maski, a nie tylko do pola miedzi. Może to jednak sprawić, że tekst sitodruku stanie się nieczytelny. Możliwość wychwycenia takich przypadków przez DRC pozwala skorygować problematyczny tekst sitodruku przed wysłaniem płytki do produkcji.

Ograniczenia

Domyślne ograniczenia dla reguły Silk To Solder Mask Clearance.

• Clearance Checking Mode - wybierz tryb sprawdzania odstępu:
  • Check Clearance To Exposed Copper - w tym trybie sprawdzanie odstępu odbywa się między obiektami sitodruku (warstwa Top/Bottom Overlay) a miedzią w polach lutowniczych elementów, która jest odsłonięta przez otwory w masce lutowniczej.
  • Check Clearance To Solder Mask Openings - w tym trybie sprawdzanie odstępu odbywa się między obiektami sitodruku (warstwa Top/Bottom Overlay) a otwarciami maski lutowniczej tworzonymi przez obiekty uwzględniające maskę lutowniczą, takie jak pady, przelotki lub obiekty miedziane z włączoną opcją Solder Mask Expansion.
• Silkscreen To Object Minimum Clearance - określa minimalny dopuszczalny odstęp między obiektem sitodruku a odsłoniętą miedzią lub otwarciami maski lutowniczej, w zależności od wybranego trybu sprawdzania odstępu.

Jak rozstrzygane są konflikty zduplikowanych reguł

Wszystkie reguły są rozstrzygane na podstawie ustawienia priorytetu. System przechodzi przez reguły od najwyższego do najniższego priorytetu i wybiera pierwszą, której wyrażenia zakresu pasują do sprawdzanego obiektu (obiektów).

Zastosowanie reguły

DRC online oraz DRC wsadowe.